9月19日，在略顯平淡的A股市場中，光刻機概念股異軍突起。

截至收盤，波長光電（301421.SZ）、騰景科技（688195.SH）漲幅超14%，凱美特氣（002549.SZ）、海立股份（600619.SH）、永新光學（603297.SH）漲停10%，新萊應材（300260.SZ）、華特氣體（688268.SH）等個股亦上漲。

據媒體引述知情人士的消息透露，中芯國際（688981.SH）正在測試由上海初創公司宇量昇製造的深紫外（DUV）光刻機，該機器採用的是浸沒式技術，技術路線接近阿斯麥（ASML.US）。

光刻機一直被視為半導體領域「卡脖子」的核心環節。光刻機集精密光學、機械和控製、材料等眾多最尖端技術於一身，算是半導體製造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，被譽為「半導體工業皇冠上的明珠」。

過往，中芯國際高度依賴從荷蘭大廠ASML進口的DUV，但近年來由於美國的出口管製，只能獲得較舊設備。據智研咨詢，目前我國光刻機行業國產化率僅為2.5%，整機技術仍與海外存在較大差距。

如果能夠實現DUV設備的規模化量產，將標誌著國内在突破美方芯片出口管製、減少對西方技術依賴方面取得關鍵勝利。

此外，光刻機技術或將提升國内先進AI芯片的製造能力，對於搶佔人工智能發展的高地具有戰略意義。

山西證券指出，芯片生產線建設中，光刻機購置成本最高，達到設備總投資的21%—23%。國内晶圓廠建設潮和AI快速發展帶動國產光刻機需求持續攀升。美國持續加大對華半導體設備出口管製，國產光刻機產業有望加速崛起。

目前中芯國際正在測試的為一台28納米的DUV設備，該設備可利用多重曝光來生產7納米芯片。據透露，中芯國際試用的這類設備也能被推向極限以生產5納米處理器，但良率會偏低。

一位知情人士表示，儘管中芯國際的試驗初步結果令人鼓舞，但目前尚不清楚該機器是否以及何時能用於大規模芯片生產。

除了上述技術突破的因素之外，光刻機概念的走強或也與政策以及資本因素有關。

近期，工信部發佈《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》，將KrF/ArF光刻機納入相關目錄；此外，國家大基金三期宣佈調整戰略方向，將重點支持光刻機與芯片設計軟件等關鍵領域的技術突破。

有分析指出，當前我國半導體產業正處在國產替代的關鍵時期，光刻機等核心設備的突破帶來巨大投資機遇。

國金證券在研報中表示，光刻機是晶圓製造核心設備之一，技術難度高且當前國產化率低。在半導體製造領域，光刻機是延續摩爾定律的核心裝備。光學繫統為光刻機核心部件。建議積極關注產業鏈優質廠商隨國產突破與加速替代產生的良機。

小結——

產業層面的技術突破、政策的支持，大基金的「鈔能力」，疊加機構吹風，多重因素共振推動了光刻機板塊的強勢表現，後續投資者可關注板塊的持續性。

(来源:财华社)