韩国简化极紫外光刻机进口审批流程 2026年06月02日,14时26分08秒 美国动态 阅读 28 views 次 韩国产业通商资源部在一份声明中表示,为助力本土蓬勃发展的芯片产业维系竞争力,韩国将简化半导体生产所用极紫外(EUV)光刻机的进口通关手续。根据内阁批准的修订版《高压气体安全控制法》实施细则,EUV 设备进口办理周期将从此前的34天缩短至约9天。韩国产业部表示,此项新政将利好三星电子与 SK 海力士,两家企业可更快完成高端芯片生产设备的装机投产。 责任编辑:王永生 关联资讯: 荐 韩国将投入超1亿美元扶持中小企业 覆盖半导体产业 05月17日 韩国政府周日宣布,将投入1700亿韩元(约合1.133亿美元),扶持生产高端战略材料、...